光刻机是一种半导体工业中常见的高精度制作技术。
它利用光刻胶和掩膜在显微镜下形成芯片的微缩图形。掩膜的准确性直接决定了芯片的最小尺寸，而光刻胶则需要有极高的分辨率、对接上层图形的可靠性和良好的耐处理性。在整个芯片制造行业中，光刻机是制作芯片的最重要设备之一。
我们肯定都曾听说过国内某些高新技术企业拥有最先进的光刻机进口设备，而这种设备一台价格就几千万，市场上也很少有。它需要极高的工艺技术支持以及全程半自动化流程来保证设备性能。因此，在芯片的制造厂商中，只有少部分企业有能力使用和掌控这种成熟的技术。
由此可以看出，光刻机是当今半导体工业的基础设备，它在芯片制造中发挥着至关重要的作用。
